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武漢國創(chuàng)科應(yīng)邀參加第十八屆“中國光谷”國際光電子博覽會(huì)

2021-11-02 16:27:29| 訪問量：2066

  2021年10月28日，武漢光博會(huì)在中國光谷科技會(huì)展中心舉行2021未來顯示技術(shù)及制造裝備高峰論壇，諸多光電子技術(shù)領(lǐng)域?qū)＜覍W(xué)者參與進(jìn)行學(xué)術(shù)交流，其中包括華中科技大學(xué)機(jī)械學(xué)院院長尹周平教授、臺(tái)灣交通大學(xué)顯示研究所陳金鑫教授、武漢光電研究中心王磊教授、鄭州大學(xué)物理學(xué)院宋繼忠教授等。

    我司聯(lián)合創(chuàng)始人、董事尹周平特邀為開場嘉賓，首先分享了柔性電子制造技術(shù)與應(yīng)用，針對(duì)當(dāng)前噴印技術(shù)存在的高分辨率結(jié)構(gòu)制備、高粘性墨液兼容性難點(diǎn)，及柔性電子存在的變形極限和尺度極限挑戰(zhàn)，提出了新型噴印技術(shù)解決思路。尹院長還表示，將面向柔性顯示、表皮電子、柔性能源、智能蒙皮等重大應(yīng)用領(lǐng)域，開展多學(xué)科交叉基礎(chǔ)研究，實(shí)現(xiàn)“基礎(chǔ)研究-關(guān)鍵應(yīng)用-重大裝備-示范應(yīng)用”的系統(tǒng)性突破。

 


    隨后，我司陳建魁總經(jīng)理攜武漢國創(chuàng)科自主研發(fā)的噴墨打印方案全面展示了新型顯示器件噴墨印刷制造技術(shù)與裝備成果，分析了我國新型顯示產(chǎn)業(yè)形式、競爭形式，闡述了我司技術(shù)基礎(chǔ)及噴墨裝備產(chǎn)業(yè)化的推進(jìn)。強(qiáng)調(diào)在新型顯示裝備產(chǎn)業(yè)化的道路上技術(shù)鏈、產(chǎn)業(yè)鏈、人才鏈、資金鏈、政策鏈缺一不可，國創(chuàng)科將在面向新型顯示產(chǎn)業(yè)國家戰(zhàn)略需求下，攻克“卡脖子”技術(shù)和核心裝備，培育我國新型顯示裝備國產(chǎn)化標(biāo)桿企業(yè)。

    我司代表發(fā)言結(jié)束后，受到論壇中在座嘉賓的熱烈響應(yīng)，不少專家、廠商、投資平臺(tái)對(duì)國創(chuàng)科的顯示技術(shù)和解決方案表示出極大的興趣，紛紛表示愿在近期到我司考察、展開進(jìn)一步合作。