Technology

產(chǎn)品技術(shù)

E/P 型裝備

      國創(chuàng)科NEJ-E/P裝備是為顯示器件結(jié)構(gòu)制造開發(fā)的多功能復(fù)合裝備，同時配置了PZT與EHD噴印系統(tǒng)，既可完成顯示功能層噴印又可以完成高分辨率微納結(jié)構(gòu)疊層或超薄膜層制備，可實現(xiàn)更復(fù)雜結(jié)構(gòu)規(guī)劃與制造，對噴印材料具有更廣的適應(yīng)性。



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技術(shù)參數(shù) 裝備技術(shù)優(yōu)勢 更多產(chǎn)品

技術(shù)參數(shù)

  • ●基板尺寸：可定制
  • ●墨滴體積：電流體fL級/壓電:3.5/6/10pL(可選配)
  • ●運動精度：≤±3μm
  • ●墨滴體積控制：±5%
  • ●E噴印模塊最小膜厚：50nm
  • ●材料粘度：E噴印模塊1～20000cps
  • ●潔凈度等級：lSO3
  • ●水氧含量：≤1ppm
  • ●具備AOI缺陷檢測功能：

產(chǎn)品應(yīng)用

  • 高分辨率RGB 打印

  • QD 點陣，5000ppi

  • 微透鏡陣列

  • 側(cè)面導(dǎo)線