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Technology

產(chǎn)品技術(shù)

ES型裝備

國(guó)創(chuàng)科NEJ-ES 型裝備采用電流體霧化技術(shù)，通過(guò)高壓電場(chǎng)引導(dǎo)高速射流尖端突破瑞利極限，產(chǎn)生fL級(jí)霧滴，可沉積≥50nm 厚的均勻致密薄膜，主要適用于高粘材料/超薄膜層的高效制備。可搭載陣列化噴頭，滿足量產(chǎn)需求。在微納光學(xué)，尤其是 AR&VR 的超薄膜層的解決方案中具有巨大的應(yīng)用價(jià)值。

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EM型裝備

國(guó)創(chuàng)科NEJ-EM噴印裝備搭載了多功能陣列化電流體點(diǎn)噴以及霧化噴頭和高分辨率單噴嘴噴頭，可大幅提高噴印效率；同時(shí)也用于高分辨率結(jié)構(gòu)制備。其具有封閉的打印氛圍控制系統(tǒng)，為打印制程提供良好的穩(wěn)定基礎(chǔ)。可選配固化模塊、上下料模塊，形成完整的工藝解決方案。

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EC型裝備

國(guó)創(chuàng)科NEJ-EC電流體噴印裝備適用于曲面結(jié)構(gòu)打印，結(jié)合電流體動(dòng)力學(xué)技術(shù)，配置五軸平臺(tái)，能夠?qū)崿F(xiàn)高分辨率的微曲面等結(jié)構(gòu)圖案打印。通過(guò)配置高速視覺(jué)系統(tǒng)、高精度多自由度運(yùn)動(dòng)平臺(tái)、精密供墨系統(tǒng)等功能模塊。并配置高精度定位視覺(jué)和多倍觀測(cè)相機(jī)，平臺(tái)重復(fù)運(yùn)動(dòng)精度提升至亞微米級(jí)，系統(tǒng)提升至專業(yè)級(jí)微納圖案打印能力。

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EP 型裝備

國(guó)創(chuàng)科NEJ-EP 型為專業(yè)級(jí)電流體噴印裝備，主要配置高精度軸運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)和微納運(yùn)動(dòng)平臺(tái)、亞微米級(jí)定位觀測(cè)系統(tǒng)，以實(shí)現(xiàn)電流體高精度點(diǎn)噴和近場(chǎng)直寫工藝。特別適用于如MLA 等超高分辨率陣列微結(jié)構(gòu)的制備和開(kāi)發(fā)，并可進(jìn)行電流體霧化工藝的開(kāi)發(fā)，實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)膜厚的成型制備。根據(jù)不同客戶要求，可加載曲面打印模塊，實(shí)現(xiàn)曲面打印。

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EH型裝備

國(guó)創(chuàng)科NEJ-EH型裝備是高精度電流體噴印裝備，主要配置高精度軸運(yùn)動(dòng)控制系統(tǒng)、精密定位和觀測(cè)系統(tǒng)，具有完整的電流體點(diǎn)噴、紡絲、霧化工藝功能，具有微米級(jí)的定位精度，適用于高分辨率微納結(jié)構(gòu)的制備和開(kāi)發(fā)。適用于玻璃基、硅基、PC基等各類剛性和柔性基板，并可根據(jù)不同客戶的基板尺寸要求進(jìn)行定制。

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EB 型裝備

國(guó)創(chuàng)科NEJ-EB 型裝備是桌面型電流體噴印裝備，結(jié)構(gòu)緊湊，占用空間小，特別適用于科研教學(xué)、研究機(jī)構(gòu)等常規(guī)實(shí)驗(yàn)室環(huán)境。配置有電流體點(diǎn)噴、紡絲、霧化工藝功能，并支持矢量圖、位圖等快速導(dǎo)入解析功能。適配材料粘度廣，可快速進(jìn)行新材料打印驗(yàn)證、工藝器件驗(yàn)證等應(yīng)用。

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